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中芯试产7nm芯片,年入274亿,中国巨头让台积电“忌惮”

2021-07-22 来源:网络

提到芯片制造领域,想必大家对台积电并不陌生,它是全球最大的芯片晶圆厂代工厂,也是ASML光刻机的股东,后者大部分的Euv光刻机都是交付给了台积电,其次是三星,就芯片代工行业来说,台积电的地位无可撼动。分析人士认为,中国在芯片设计领域走在了世界前列,但在芯片制造领域落后欧美国家有二十年左右,考虑到ASML无法为中国提供Euv光刻机,目前国内最先进制程停留在了14nm阶段。

目前来看,全球具备代工5nm芯片的公司就三星和台积电,苹果A14就是用了台积电第一代5nm工艺制程,华为麒麟9000亦是如此,高通这边用的是三星5nm技术,在功耗散热表现方面不佳,因此在未来很长一段时间,台积电的市场优势都无可撼动。尽管如此,台积电也不能高枕无忧,三星表示要在2030年重回世界第一晶圆厂地位,也为此投入巨大的研发资金。国产中芯国际也是捷报频传,短短3年时间就完成了14nm-7nm的跨越。

反观台积电这边,从14nm提升至7nm花费了十几年的时间,足以见得中芯国际进步神速,已经在芯片制造领域取得突破性进展。早在去年开始,就传出中芯国际要进入7nm制造领域,目前公司的14nm制程工艺就已经达到了量产水准,这显然不是终点。14nm制程已经可以满足国内90%电子产品的需求,唯一遗憾现在手机芯片进入高制程阶段,高端机型都上5nm芯片了,中芯国际也是不止于此,消息称要在4月份试产7nm芯片。

和三星台积电不同,中芯国际的7nm芯片并非Euv技术,而是采用了DUV光刻机制造,这或许将会让台积电倍感压力。ASML的DUV光刻机一直都是正常供货给中国,受到客观原因影响,无法为中国提供EUV光刻机,百般无奈之下,中芯国际采用“N+1”新技术,将DUV光刻机发挥到极致,从而让DUV光刻机的7nm技术做到媲美Euv工艺。梁孟松博士也给出了下一代“N+1”工艺的数据,较14nm工艺来说,功耗降低57%、性能提升20%。

经过多重曝光和特殊工艺处理之后,中芯国际的7nm工艺同样可靠,在这之前,具备量产7nm芯片的厂商就三星和台积电,一旦试产成功,中芯国际将成为全球第三家具备量产7nm芯片的巨头。一旦中芯国际的7nm此次能够成功实现量产,这将让台积电倍感压力,将会分流走一部分的客户资源。值得肯定的是,在14nm工艺技术上,中芯国际的芯片良品率上基本做到和台积电持平,攻下7nm技术之后,将会对5nm技术发起冲击。

好事成双,除了有望量产7nm芯片之外,中芯国家的2020年财报也是格外华丽,全年营收达到了274.7亿,其中净利润同比大涨141.5%达到43.32亿,在国际形势如此严峻的情况下,中芯国际依然顶住压力,取得佳绩是难得可贵的。作为全球前五大晶圆厂,中芯国际每一次的进步都是可见的,具备量产14nm芯片的国家屈指可数,中国是其中之一,对于中芯国际有望试产7nm芯片这件事,你们作何评价?欢迎留言讨论。